光譜分析儀由一個入射狹縫，一個色散系統，一個成像系統和一個或多個出射狹縫組成。集信息采集，處理，存儲諸功能于一體，它己被廣泛使用于幾乎所有的光譜測量，分析及研究工作中，特別適應于對微弱信號，瞬變信號的檢測。在了解了光譜分析儀的投射測定的相關內容后，我們再來看看影響光譜分析儀測量的一些內在因素。
1.物理干擾
物理干擾是指在樣品轉移和蒸發過程中任何物理因素變化引起的干擾效應。屬于此類干擾的因素包括：測試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾，對樣品元素的影響基本相似。
制備類似于測試樣品的標準樣品是消除物理干擾的常用方法。當樣品的成分未知或無法匹配時，可以使用標準添加方法或稀釋方法來減少和消除物理干擾。
2.化學干擾
化學干擾是指由測試元件與其他組件之間的化學相互作用引起的干擾效應。它主要影響測試元件的原子化效率，并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來源。這是由于在液相或氣相中被測元素的原子與干擾物質的組成之間形成了熱力學更穩定的化合物，這影響了被測元素化合物的離解和原子化。
消除化學干擾的方法包括：化學分離;使用高溫火焰;加入釋放劑和保護劑等。
3.電離干擾
高溫下原子的電離會降低基態原子的濃度，并導致原子吸收信號降低，這種干擾稱為電離干擾。電離效應隨溫度和電離平衡常數的增加而增加，而隨被測元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。
4.光譜干擾
光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內存在非吸收線、原子化池內的直流發射、分子吸收、光散射等。當采用銳線光源和交流調制技術時，前3種因素一般可以不予考慮，主要考慮分子吸收和光散射地影響，它們是形成光譜背景的主要因素。
5.分子吸收干擾
分子吸收干擾是指由原子化過程中產生的氣體分子，氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過程中生成的固體顆粒會散射光，從而使散射光偏離光路，并且無法被檢測器檢測到，從而導致高吸收值。
